SJ 21499-2018 声表面波器件划片工艺技术要求[电子].pdf
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1、中华人民共和国电子行业标准FL 6200 SJ 21499-2018 声表面波器件划片工艺技术要求Technical requirements for wafer dicing process of surface acoustic wave device 2018 -12 -29发布2019一03一01实施国家国防科技工业局发布SJ 21499-2018 目IJ1=1 本标准由中国电子科技集团有限公司提出。本标准由工业和信息化部电子第四研究院归口。本标准起草单位:中国电子科技集团公司第二十六研究所。本标准主要起草人:陶毅、吴琳、张生s盗侮也垣品法平、唐光庆、米佳、刘良芳、刘洋。1 范围2 规
2、范性引用文件下列文件中的修改单(不包含是否可使用这些将晶4 一般要求4. 1 人员工艺人员应具备a) 需熟练掌握划片声表面波器件划片工艺技术要求b) 熟悉操作规程、检验4. 2 环境划片工艺环境要求如下:a) 温度22oC土30C;b) 相对湿度30%-70%;c) 洁净度:不低于GB/T25915.1-2010中规定的ISO7级;SJ 21499-2018 文件,其随后所有的协议的各方研究准。专业岗位技术培训:d) 洁净间应铺设防静电地板,操作台为防静电台面并接地,台面下安装防静电手环并接地;e) 生产操作中使用的物品均应有防静电功能。4. 3 安全防护4.3. 1 人员安全人员安全要求如下
3、:a) 划片机主轴未完全停止前,严禁靠近刀片和主轴,以防被切伤;SJ 21499-2018 b) 划片机工作时,严禁身体任何部位处于各轴运动的路线上,以防被撞伤;c) 清洗机正作时,严禁身体任何部位进入设备内:d) UV照射机工作时,严禁眼睛直视UV光源;e) 工作区内应有通风排风装置保证通风、送风良好。4. 3. 2 设备安全设备安全要求如下:a) 划片机工作过程中,不得让异物处于各轴运动的路线上,以防止撞伤设备;b ) 设备应配备紧急制动按钮:c) 应配备灭火和排风设施。4. 3. 3 环境安全环境安全要求如下:a) 废水按环保要求,达标进行排放;b) 废物应交由具有环保资质单位进行处理。
4、4. 3. 4 产品安全产品安全要求如下:a) 工艺人员进入洁净间穿防静电净化服,并进行全身去静电处理;b) 工艺人员工作时戴口罩、戴乳胶手套、套戴头套。4. 4 材料4. 4. 1 主料主料为光刻检验合格的声表面波晶片。4. 4. 2 辅料辅料及要求见表1。表1辅料及要求名称技术要求用途蓝膜厚度0.08mml户、叶白、-贴膜uv膜厚度0.08mmO.12 illill,中等粘度贴膜压缩空气或氮气干燥、经过滤、无油,压力O.6MPa吹干去离子水压力:二三0.3MPa,电阻率:二三13MQcm清洗、冷却4. 5 设备与工艺装备主要设备与工艺装备及要求见表2。2 表2设备、工装及要求名称技术要求工
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