黄光制程工艺流程.ppt
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1、黄黄 光光 制制 程程2总总流流程程图图BM制程ITO1制程OC1制程ITO2制程MAM制程OC2制程Glass3l黄光制程:黄光制程:通过对涂覆在玻璃表面的光敏性物质(又称为光刻胶或光阻),经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用,然后进行蚀刻脱膜并最终获得永久性图形的过程。4制制程程流流程程CleanIR/UV/CPCTPre-bakeExpoDevGlassPost-bakeEtchStripSputterClean5 素玻璃经过清洗、烘烤后进入真空室进行溅镀ITO/MAM。Glass6Glass Cleaning:去除玻璃表面的脏污、油污等,使玻璃表面清洁,以保证后续光阻的涂布效果及结
2、合力。主要控制参数:主要控制参数:清洗液浓度,清洗速度,脱脂毛刷压入量。Cleaning7成膜前清洗流程:入料液切洗涤剂喷淋洗涤剂刷洗液切冲洗纯水刷洗高压喷淋中压喷淋二流体喷淋末端DI水喷淋风刀吹干出料 Cleaning8溅镀原理:溅镀原理:溅镀原理:溅镀原理:靶材接阴极,玻璃接正极或接地,导入氩气。靶材接阴极,玻璃接正极或接地,导入氩气。电子在电场的作用下加速飞向玻璃的过程中与电子在电场的作用下加速飞向玻璃的过程中与ArAr原子发原子发生碰撞,电离出大量的生碰撞,电离出大量的ArAr+和和e e-,形成等离子体,形成等离子体(电浆电浆)。ArAr+在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材
3、原在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子子,呈中性的靶原子(或分子或分子)玻璃沉积成膜。玻璃沉积成膜。ITO(Indium Tin Oxide):ITO(Indium Tin Oxide):是一种是一种N N类型的宽能隙的半导类型的宽能隙的半导体,具有高透光率及导电性,因此相当符合应用于同样体,具有高透光率及导电性,因此相当符合应用于同样需高透光率及导电性的显示屏等相关产品材料上。需高透光率及导电性的显示屏等相关产品材料上。ITOITO能吸收空气中的能吸收空气中的COCO2 2和和H H2 2O O而发生而发生“霉变霉变”,需防潮。,需防潮。ITOITO层在活性正价离
4、子溶液中易产生离子置换反应,形成其层在活性正价离子溶液中易产生离子置换反应,形成其它导电和透过率不佳的反应物质,所以在加工过程中,它导电和透过率不佳的反应物质,所以在加工过程中,应尽量避免长时间放在活性正价离子溶液中应尽量避免长时间放在活性正价离子溶液中。主要参考参数:主要参考参数:主要参考参数:主要参考参数:镀膜厚度,膜层附着力。镀膜厚度,膜层附着力。Sputter9Glass Cleaning:去除玻璃表面的脏污、油污等,使玻璃表面清洁,以保证后续光阻的涂布效果及结合力。主要控制参数:主要控制参数:清洗液浓度,清洗速度,脱脂毛刷压入量。Cleaning10清洗流程:入料液切洗涤剂喷淋洗涤剂
5、刷洗液切冲洗纯水刷洗高压喷淋中压喷淋二流体喷淋末端DI水喷淋风刀吹干出料 Cleaning11IR UV CPIR:高温烘干玻璃表面水分。UV:去除玻璃的表面的有机物,使玻璃被进一步清洁。CP:将玻璃温度冷却至室温。主要控制参数:主要控制参数:IR温度,传导速度。12Coating:在玻璃正面均匀的涂上一层感光物质光阻。光阻光阻(Photo resist,简称,简称PR):光阻是利用材料光化学反应进行图形转移的媒体,有正性光阻和负性光阻之分。正性光阻经过紫外曝光后,被曝光的区域发生光分解或降解反应,使性质发生变化优先溶于正性显影液,未曝光的部分则被保留形成正型图形。负性光阻的性质正好与之相反,
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