GB∕T 39144-2020 氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法.pdf
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1、书 书 书犐 犆犛 犎 中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准犌犅犜 氮化镓材料中镁含量的测定二次离子质谱法犜 犲 狊 狋犿犲 狋 犺 狅 犱犳 狅 狉犿犪 犵 狀 犲 狊 犻 狌犿犮 狅 狀 狋 犲 狀 狋犻 狀犵 犪 犾 犾 犻 狌犿狀 犻 狋 狉 犻 犱 犲犿犪 狋 犲 狉 犻 犪 犾 狊犛 犲 犮 狅 狀 犱 犪 狉 狔犻 狅 狀犿犪 狊 狊狊 狆 犲 犮 狋 狉 狅犿犲 狋 狉 狔 发布 实施国 家 市 场 监 督 管 理 总 局国 家 标 准 化 管 理 委 员 会发 布书 书 书前言本标准按照 给出的规则起草。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会( )与全国半导体设备
2、和材料标准化技术委员会材料分技术委员会( )共同提出并归口。本标准起草单位:中国电子科技集团公司第四十六研究所、北京聚睿众邦科技有限公司、东莞市中镓半导体科技有限公司、有色金属技术经济研究院、厦门市科力电子有限公司。本标准主要起草人:马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何?坤、杨素心、闫方亮、杨丽霞、颜建锋、倪青青。犌犅犜 氮化镓材料中镁含量的测定二次离子质谱法范围本标准规定了氮化镓材料中镁含量的二次离子质谱测试方法。本标准适用于氮化镓材料中镁含量的定量分析,测定范围为不小于 。注:氮化镓材料中的镁含量以每立方厘米中的原子数计。规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件
3、,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。 半导体材料术语 表面化学分析词汇 分析仪器性能测定术语术语和定义 、 和 界定的术语和定义适用于本文件。方法原理在高真空(真空度优于 )条件下,氧离子源产生的一次离子,经过加速、纯化、聚焦后,轰击氮化镓样品表面,溅射出多种粒子。将其中的离子(即二次离子)引出,通过质谱仪将不同质荷比的离子分开,记录并计算样品中镁与镓的离子计数率之比,利用相对灵敏度因子定量分析并计算出氮化镓材料中的镁含量。干扰因素 二次离子质谱仪存在记忆效应,若测试过镁含量较高的样品,仪器样品室内会残留高含量镁,影响镁含量的测试结
4、果。 仪器型号不同或者同一仪器的状态不同(例如电子倍增器效率、光圈大小、一次束流大小、聚焦状态等) ,会影响本方法的检出限。 在样品架窗口范围内的样品分析面应平整,以保证每个样品移动到分析位置时,其表面与离子收集光学系统的倾斜度不变,否则会降低测试的准确度。 样品表面吸附的镁离子可能影响镁含量的测试结果。 测试的准确度随着样品的表面粗糙度增大而显著降低,应通过对样品表面化学机械抛光或者化学腐蚀抛光降低表面粗糙度。 标准样品中镁含量的不均匀性会限制测试结果的准确度。 标准样品中镁标称含量的偏差会导致测试结果的偏差。犌犅犜 仪器设备扇形磁场二次离子质谱仪( ) ,应配备有氧一次离子源、能检测正二次
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