点缺陷符号和反应式ppt课件.ppt

单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,*,2.2点缺陷,本节介绍以下内容：,一、点缺陷的符号表征：Kroger-Vink符号,二、缺陷反应方程式的写法,一、点缺陷的符号表征:Kroger-Vink符号,以MX型化合物为例：,1.空位（vacancy）,用V来表示，符号中的右下标表示缺陷所在位置，V,M,含义即M原子位置是空的。,2.间隙原子（interstitial）,亦称为填隙原子，用M,i,、X,i,来表示，其含义为M、X原子位于晶格间隙位置。,3.错位原子,错位原子用M,X,、X,M,等表示，M,X,的含义是M原子占据X原子的位置。X,M,表示X原子占据M原子的位置。,4.自由电子（electron）与电子空穴(hole）,分别用e,，,和h,来表示。其中右上标中的一撇“,，,”代表一个单位负电荷，一个圆点“,”代表一个单位正电荷。,5.带电缺陷,在NaCl晶体中，取出一个Na,+,离子，会在原来的位置上留下一个电子e,，,，,写成V,Na,，即代表Na,+,离子空位，带一个单位负电荷。同理，Cl,离子空位记为V,Cl,，带一个单位正电荷。,即：V,Na,=V,Na,e,，,，V,Cl,=V,Cl,h,。,其它带电缺陷：,1)CaCl,2,加入NaCl晶体时，若Ca,2+,离子位于Na,+,离子位置上，其缺陷符号为Ca,Na,，此符号含义为Ca,2+,离子占据Na,+,离子位置，带有一个单位正电荷。,2)Ca,Zr,表示Ca,2+,离子占据Zr,4+,离子位置，此缺陷带有二个单位负电荷。,其余的缺陷V,M,、V,X,、M,i,、X,i,等都可以加上对应于原阵点位置的有效电荷来表示相应的带电缺陷。,6.缔合中心,电性相反的缺陷距离接近到一定程度时，在库仑力作用下会缔合成一组或一群，产生一个,缔合中心,，V,M,和V,X,发生缔合,记为（V,M,V,X,）。,二、缺陷反应表示法,对于杂质缺陷而言，缺陷反应方程式的一般式：,1.写缺陷反应方程式应遵循的原则,与一般的化学反应相类似，书写缺陷反应方程式时，应该遵循下列基本原则：,（1）位置关系,（2）,质量平衡,（3）电中性,（1）位置关系：,在化合物M,a,X,b,中，无论是否存在缺陷，其正负离子位置数（即格点数）的之比始终是一个常数a/b，即：M的格点数/X的格点数,a/b。如NaCl结构中，正负离子格点数之比为1/1，Al,2,O,3,中则为2/3。,注意：,位置关系强调形成缺陷时，基质晶体中正负离子,格点数之比,保持不变，并非原子个数比保持不变。,在上述各种缺陷符号中，,V,M,、,V,X,、,M,M,、,X,X,、,M,X,、,X,M,等位于正常格点上，对,格点数的多少,有影响，而,M,i,、,X,i,、,e,，,、,h,等不在正常格点上，对格点数的多少无影响。,形成缺陷时，基质晶体中的,原子数,会发生变化，外加杂质进入基质晶体时，系统原子数增加，晶体尺寸增大；基质中原子逃逸到周围介质中时，晶体尺寸减小。,（2）质量平衡：,与化学反应方程式相同，缺陷反应方程式两边的质量应该相等。需要注意的是缺陷符号的,右下标,表示缺陷所在的位置，对质量平衡无影响。,（3）电中性：,电中性要求缺陷反应方程式两边的,有效电荷数,必须相等。,2.缺陷反应实例,（1）杂质（组成）缺陷反应方程式,杂质在基质中的溶解过程,杂质进入基质晶体时，一般遵循,杂质的正负离子分别进入基质的正负离子位置,的原则，这样基质晶体的晶格畸变小，缺陷容易形成。在不等价替换时，会产生间隙质点或空位。,例1写出NaF加入YF,3,中的缺陷反应方程式,以,正离子,为基准，反应方程式为：,以,负离子,为基准，反应方程式为：,以,正离子,为基准，缺陷反应方程式为：,以,负离子,为基准，则缺陷反应方程式为：,例2写出CaCl,2,加入KCl中的缺陷反应方程式,基本规律：,低价正离子占据高价正离子位置时，该位置带有,负电荷,，为了保持电中性，会产生负离子空位或间隙正离子。,高价正离子占据低价正离子位置时，该位置带有,正电荷,，为了保持电中性，会产生正离子空位或间隙负离子。,例3 MgO形成,肖特基缺陷,MgO形成肖特基缺陷时，表面的Mg,2+,和O,2-,离子迁移到表面新位置上，在晶体内部留下空位:,Mg,Mg surface,+O,O surface,Mg,Mg new surface,+O,O new surface,+,以,零O,（naught）代表无缺陷状态，则：,O,（2）热缺陷反应方程式,例4 AgBr形成弗仑克尔缺陷,其中半径小的Ag,+,离子进入晶格间隙，在其格点上留下空位，方程式为：,Ag,Ag,当晶体中剩余空隙比较小，如NaCl型结构，容易形成肖特基缺陷；当晶体中剩余空隙比较大时，如萤石CaF,2,型结构等，容易产生弗仑克尔缺陷。,一般规律：,三、热缺陷浓度的计算,在一定温度下，热缺陷是处在不断地产生和消失的过程中，当单位时间产生和复合而消失的数目相等时，系统达到平衡，热缺陷的数目保持不变。,根据质量作用定律，可以利用化学平衡方法计算热缺陷的浓度。,化学平衡方法计算热缺陷浓度,（1）MX,2,型晶体肖特基缺陷浓度的计算,CaF,2,晶体形成肖特基缺陷反应方程式为：,动态平衡,G=RTlnK,又O=1，则,（2）弗仑克尔缺陷浓度的计算,AgBr晶体形成弗仑克尔缺陷的反应方程式为：,Ag,Ag,平衡常数K为：,式中 Ag,Ag,1。,又,G=RTlnK,则,式中,G为形成1摩尔弗仑克尔缺陷的自由焓变化。,注意:在计算热缺陷浓度时，由形成缺陷而引发的周围原子振动状态的改变所产生的,振动熵变,，在多数情况下可以忽略不计。且形成缺陷时晶体的,体积变化,也可忽略，故热焓变化可近似地用内能来代替。所以，实际计算热缺陷浓度时，一般都用,形成能,代替计算公式中的,自由焓,变化。,四、热缺陷在外力作用下的运动,由于热缺陷的产生与复合始终处于动态平衡，即缺陷始终处在运动变化之中,缺陷的相互作用与运动是材料中的动力学过程得以进行的物理基础。无外场作用时，缺陷的迁移运动完全无序。在外场（可以是力场、电场、浓度场等）作用下，缺陷可以定向迁移，从而实现材料中的各种传输过程（离子导电、传质等）及高温动力学过程（扩散、烧结等）能够进行。,五、热缺陷与晶体的离子导电性,式中:n-单位体积中带电粒子的数目,V-带电粒子的漂移（运动）速度,-,电场强度,z-,粒子的电价,则,j=nzeV为,单位时间内通过单位截面的电荷量,。,=V/,是带电粒子的迁移率。,总的电导率,纯净晶体:,只有本征缺陷（即热缺陷）,能斯特爱因斯坦（Nernst-Einstein）方程：,式中：D是带电粒子在晶体中的扩散系数；n为单位体积的电荷载流子数，即单位体积的缺陷数。,综上所述，晶体的离子电导率取决于晶体中热缺陷的多少以及缺陷在电场作用下的漂移速度的高低或扩散系数的大小。通过控制缺陷的多少可以改变材料的导电性能。,