JC∕T 2068-2011 镀膜玻璃生产规程.pdf

I C S8 1 0 4 0Q3 0备案号：3 4 4 1 8-2 0 1 2】C中华人民共和国建材行业标准J C T2 0 6 8 2 0 11镀膜玻璃生产规程S p e c i f i c a t i o nf o rc o a t e dg l a s sm a n u f a c t u r ep r o c e s s2 0 1 卜1 2 2 0 发布2 0 12-0 7 0 1 实施中华人民共和国工业和信息化部发布刖l a：lJ C，r2 0 6 8 2 0 11本标准按照G B T1 1 2 0 0 9 给出的规则起草。本标准由中国建筑材料联合会提出。本标准由全国建筑用玻璃标准化技术委员会(S A C T C2 5 5)归口。卒标准负责起草单位：浙江中力控股集凹有限公司、中国建筑玻璃与工业玻璃协会。本标准参加起草单位：金晶(集团)有限公司、秦皇岛耀华玻璃股份有限公司、威海监星玻璃股份有限公司、格兰特工程玻璃(中山)有限公司、信义玻璃工程(东莞)有限公司、上海北玻镀膜技术工业有限公司、浙江东亚工程玻璃有限公司本标准主要起草人：王烁、候英兰、张佰恒、李会、许武毅、李越、夏黎海、刘军波、龙霖星。本标准为首次发布。1 范围镀膜玻璃生产规程J C，T2 0 6 8 2 0 11本标准规定了镀膜玻璃生产的术语币定义、分类、材料、制作、成品榆验以及包装、标志、运输羽贮存。本标准适用j i 磁控溅射镀膜玻璃和在线化学气相沉积镀膜玻璃的牛产。2 规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅所注L J 期的版本适用于本文件。凡是4；注日期的引用文竹，其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文什。G B T7 2 8 1 9 9 8 锡锭G B T3 6 2 0l 2 0 0 7 钛及钛合金牌号和化学成分G B T6 3 8 2 1 平板玻璃集装器具架式集装器及其试验方法G B T6 3 8 2 2 平板玻璃集装器具箱武集装器及其试验方法G B T2 0 8 7 8-2 0 0 7 不锈钢和耐热钢牌号及化学成分G B T1 8 9 1 5 1 镀膜玻璃第1 部分：阳光控制镀膜玻璃G B T1 8 9 1 5 2 镀膜玻璃第2 部分：低辐射镀膜玻璃J c T5 1 3 平板玻璃木箱包装3 术语和定义F 剐术语和定义适用于本文件。3 1靶材s p u t t e r i n gt a r g e t被高速荷能粒了轰击的，可沉积或反应成膜的固体利料。3 2磁控溅射镀膜m a g n e t r o ns p u t t e r i n gc o a t i n g真空环境中，在电场及磁场的作用F，靶材被气体辉光放电产生的荷能离子轰击，粒子从其表面射出，在被镀基体表面沉积或反应成膜的工艺过程。3 3镀膜前驱体c o a t i n gp r e c u r s o r含有构成薄膜成分的化学物质，n T 通过化学反应在高温基体表面7 侈成膜层。3 4化学气相沉积镀膜c h e m i c a lv a p o rd e p o s i t i o nc o a t i n g将镀膜前驱体施加到高温基体表面，在气相一固相界面发生化学反应，在基体表面沉积反应成膜的工艺过程。3 5J C，r2 0 6 8 2 0 1 1工艺气体p r o c e s sg a s磁控溅射过程中用于产生等离了体或发生特定化学反应的一种或儿种气体。化学气相沉积过程中镀膜前驱体气体、反应气体及载体气体的总称。3 6镀膜反应器c o a t i n gr e a c t o r在化学气相沉积镀膜过程巾，将工艺气体喷射到基体表面的特定装置。3 7阴极c a t h o d e在磁控溅射镀膜工艺中，承载靶材实现磁控溅射的装置。装置内包括磁性材料、冷却装置、屏蔽装置等。3 8可热加工的镀膜玻璃h e a tt r e a t a b l ec o a t e dg l a s s指热加工后膜层性能稳定，各项指标仍符合韦H 关国家标准或行业标准的镀膜玻璃。4 分类41按产品性能分为阳光控制镀膜玻璃和低辐射镀膜玻璃。42 按生产工艺分为离线磁控溅射镀膜和在线化学气相沉积镀膜。5 材料51磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料包括玻璃、靶材、工艺气体、保护膜、干燥剂等，各种材料均麻符合相应国家标准或行业标准的要求以及生产工艺要求。材料应有合格证，进口材料应有相关证明。5 1 1 玻璃磁控溅射镀膜玻璃可选用平板玻璃、防火玻璃、钢化玻璃、夹层玻璃、半铡化玻璃、压花玻璃、超白浮法玻璃等作为基体材料。512 靶材磁控溅射镀膜工艺常用靶材n J 参见附录A。5 1 3 工艺气体工艺气体包括高纯度的氩气、氮气、氧气等。514 其他材料包括保护膜、干燥剂、隔离粉、珍珠棉、惰性气体等。52 化学气相沉积镀膜玻璃材料化学气相沉积镀膜玻璃生产所J j 材料包括玻璃、镀膜前驱体、工艺气体等。各种材料均应符合相应l 到家标准或行业标准的要求，尚无相应标准的材料应符合设计要求。材料应有台格证，进口材料应有相关证明。5 21 玻璃化学气相沉积镀膜玻璃哪选用平板玻璃、超白浮法玻璃等作为材料。5 2 2 镀嚏前驱体化学气相沉积镀膜工艺常用的镀膜前驱体可参见附录B。6 制作J C，r2 0 6 8 2 0 1161 一般要求611镀膜玻璃生产企业应具备满足生产要求的设备，并定期进行维护保养。6 12 镀膜玻璃生产企业应具备必要的量具和检测设备，并定期进行计量检定。应具备的膜层检测设备有在线分光光度汁、离线分光光度汁、耐磨试验机和方块电阻测量仪。宜具备辐射率测定仪、红外分光光度计、雾度仪、台阶仪、椭偏仪等。613 从事镀膜玻璃生产的作业人员，应具备相应的专业技能并经过安全操作培训，持证上岗。6 1 4 镀膜玻璃的生产应具备工艺操作规程、作业指导书、安全操作规程、应急方案等。615 磁控溅射镀膜的基片宜选用近期生产的玻璃，必要时应进行抛光处理。616 磁控溅射镀膜玻璃生产应具备上下片台、清沈机、磁控溅射装置、生产监控、在线检测、循环冷却水系统、水处理系统等装置。617 磁控溅射镀膜工艺室的基础真空度宦优于5 1 0 P a。6 1 8 镀膜面宜为玻璃的非锡面。619 清洗用去离子水电阻宜大：5M n。62 磁控溅射镀膜玻璃的制作6 21 生产工艺流程生产工艺流程见幽l。图1磁控溅射镀膜玻璃生产工艺流程图6 2 2 生产前检查生产前应进行如下检查：a)清洗用去离子水的电阻：b)镀膜工艺室的真空度；c)靶材配置：d)工艺气体的种类、纯度、压力e)冷却系统的工作状态：J C，r2 0 6 8 2 0 1 1f)自动上、l：片台装置和清洗机的工作状态g)生产监控装置、在线检测装置的工作状态h)磁控溅射阴极的T 作状态。62 3 上片上片时应对玻璃的外观质量、尺寸、厚度、锡面训向等进行检查。6 24 前清洗清洗机的水温宜在3 5 4 5 之间，最后一道消洗水应使用去离子水，清洗后的玻璃表面无划伤、破角、水渍或残留水珠等缺陷，同时清洗玻璃的干燥风应经过滤处理，保证玻璃清洗后沽净、干燥。6 2 5 调试根据标样设置适当的工艺参数，并进行生产试制，当试样符合以下各项指标时方可连续生产：a)可见光透射比、可见光反射比、颜色值、颜色均匀性符合产品要求：b)低辐射镀膜玻璃的辐射率符合产品要求：c)耐磨性能符合产品要求；d)可热加工的磁控溅射镀膜玻璃应进行热加T 性能订估，热加工后满足可见光透射比、可见光反射比、颜色，颜色均匀性、辐射率、耐洗刷性等要求。注：q 1 空玻璃用材料包括玻璃、问龋材料、密封材料、干燥剂等符种材料均成符合千f】应旧家标准或行业标准的耍球，尚无相应标准的利料应符合设计要求。材料应有合格证，进口材料应有相关证明。6 26 生产过程监控6 2 616 2 6 26 2 6 36 2 6 46 26 56 2 6 6应对工艺气体进行监控并保持稳定。应监控镀膜玻璃n r 见光透射比、r 玎见光反射比、颜色、颜色均匀性、辐射率的检测值。应监控阴极的工作电压、I b 流、功率值。应观察阴极辉光处于稳定状态，f|现异常应及时进行调整。应监控玻璃的传送过程处于稳定状态。应对产品按一定频次进行离线抽检。6 27 后清洗为检查阳光控制镀膜玻璃外观质节，。茂进行后清洗。6 3 在线化学气相沉积镀膜玻璃的制作6 31 生产工艺流程生产工艺流程见图2。J C，T2 0 6 8 2 0 11图2 在线化学气相沉积镀膜玻璃生产工艺流程图63 2 检测设备生产企世应具备浮法玻璃生产线、镀膜系统及产品质量榆测设备。6 3 3 标准样片H i 同品种的镀膜玻璃虚制作标准样片，测试膜层的光学、热学性能，将测试数据作为标样参数。63 4 生产准备工作生产应进行如F 准备丁作：a)浮法玻璃原片质景应达到镀膜工岂要求；b)清理镀膜反应器、工艺管道等；c)调整玻璃原板宽度、温度、拉引速度、气氛、退火工艺参数d)启动工艺气体配送装置，工艺气体指标达到镀膜要求；e)启动镀膜系统冷却装置；f)启动工艺气体、镀膜前驱体、气幕保护气力热装置；g)启动废气处理装置；h)将镀膜反应器置：镀儿葵区工艺位置。6 35 调试6 3 51将镀膜工艺气体导入镀膜反应器。6 352 连续镀膜丌始后按照一定规则取样并测试测试数据与标样参数对比。4 i 符合要求时，应重新调整工艺参数，直到符合要求方可作为合格产品生产。6 353 镀膜所产生废气要进行无害化处理，达到国家环保要求。6 36 生产过程监控6 3 61生产过科!中要时镀膜T 艺参数、锡槽T 艺参数、退火工艺参数进行实时监控并做适当调整。6 3 G2 镀膜划间要周期性刘镀膜反麻器进行清扫。6 36 3 对镀膜玻璃各项性能进行检测：a)颜色均匀性榆测；J C，r2 0 6 8 2 0 11b)低辐射镀膜玻璃辐射率检测或方块电阻检测c)可见光透射比检测；d)耐酸性、耐碱性、耐磨性检测。6 3 64 对镀膜玻璃外观质最进行监控。6 37 镀膜生产停止6 3 71停止镀膜系统，退出镀膜反应器。6 3 7 2 退出镀膜状态。7 成品检验镀膜玻璃的成品检验依照G B T1 8 9 1 51、G B T1 8 9 1 52 的规定执行。8 包装、标志、运输和贮存81包装81 1 应符合G B T1 8 9 1 5 1、G B T1 8 9 1 5 2、J C T5 1 3、G B T6 3 8 2 1 和G B 1 6 3 8 2 2 的规定。8 1 2 包装内宜附带有该种产品的简要加工指导及使用说明等。81 3 磁控溅射阳光控制镀膜玻璃其镀膜而宜采用隔离粉、静电保护膜、珍珠棉等进行保护。814 磁控溅射低辐射镀膜玻璃其镀膜阳1 应采用静电保护膜或隔离粉等进行保护。每箱低辐射镀膜玻璃应采用塑料膜进行崭封保护，塑料包装内应填充足量的干燥剂，必要时还可填充惰性气体进行保护。815 在线化学气相沉积镀膜玻璃其镀膜面宜采H j 隔离粉、防霉纸、防霉液、珍珠棉等进行保护。8 1 6 保护膜、干燥剂、隔离粉等保护材料在使J 】前应进行性能评估，保n ：其不对膜面产生损伤。8 2 标志、运输和贮存应符合G B T1 8 9 1 5 1、G B T1 8 9 1 5 2 的规定。6A1 材质附录A(资 4 性附录)磁控溅射镀膜玻璃常用磁控溅射镀膜破璃靶材包括钛(7 i)靶、不锈钏G s T)靶、银(A g)靶、锌铝(Z n A l 2)靶、氧化钛(T i O x)靶、硅铝(S i A l)靶、锌锡(Z n S n S O)靶、锡幅n)靶、铌(N b)靶、氧化锌铝(Z A O)靶、铬(c r)靶、镍铬(N i C r)靶等，材质要求见表 1。表A1 靶材材质靶材外)口分为圆靶和平靶两利t，靶材的尺1 及就允许偏蔗应符合窖，t 图纸和设计图纸的螫求J C，r2 0 6 8 2 0 11B1单丁基三氯化锡(M B T C)附录B(资料性附录)化学气相沉积常用镀膜前驱体足一利，有机锡卤化物的混配物，用于形成S n O：膜层，常温下为无色或淡黄色酸性液体，具有腐蚀性。质量要求：有机锡卤化物的混配物一 9 5 w t，挥发性有机物5 w t。B2 掺锑单丁基三氯化锡(M B T C：S b)是一种掺锑有机锡卤化物的混配物，用于形成锑掺杂S n O；膜层，常温下为无色或淡黄色酸性液体具有强腐蚀性。质量要求：锑掺杂有机锡卤化物的混配物9 9 w t。B 3=甲基二氯化锡(D M T C)是一种有机锡卤化物的混配物，用于形成S n O。膜层，常温 为同体，具有强腐蚀性。质量要求：主要成分二甲基二氯化锡9 0 w t，一甲基三氯化锡1 0 w t。B 4 三氟乙酸(T F A)用来对膜层进行掺杂，常温下为无色酸性液体，具有强腐蚀性。质量要求：主要成分三氟乙酸9 9 9 w t。B 5 硅酸四乙酯(T E O S)用来形成锡硅氧化物膜层，常温下为无色液体。质量要求：主要成分硅酸四乙酯9 9 w t。B 6 硅烷(s i 吣用于形成非晶硅膜层和碳硅氧膜层，常温下是气体，遇空气自燃。质量要求：主要成分硅烷9 9 9 9 9。B 7 乙烯(C z H。)8用于形成碳硅氧膜层，常温下是气体，易燃。质量要求：主要成分乙烯9 9 9 9。洲嗍中华人民共和国建材行业标准镀膜玻璃生产规程J C T2 0 6 8-2 0 1 1中国建材工业出版社出版建筑材料工业技术监督研究中心(原国家建筑材料工业局标准化研究所)发行新华书店北京发行所发行各地新华书店经售地矿经研院印刷厂印刷版权所有不得翻印女开本8 8 0 X 1 2 3 01 1 6 印张0 8 7 5 宇数2 2 千宇2 0 1 2 年5 月第一版2 0 1 2 年5 月第一次印刷印数l 一4 0 0 定价2 4 0 0 元书号：1 5 5 1 6 0-0 6 0编号：0 7 4 9网址：w w W s t a n d a r d c n j c t o m 电话：[phone]地址：北京朝阳区管庄东里建材大院北楼邮编：1 0 0 0 2 4本标准如出现印装质量问题，由发行部负责调换。