液晶技术与制备5.pptx
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1、5.1 5.1 液晶分子的取向技术液晶分子的取向技术排列种类垂面排列沿面排列倾斜排列扭曲排列混合排列平面排列焦锥排列/|/|/|/=|/|/基片表面处理:基片表面处理:垂直取向处理垂直取向处理:是指使:是指使液晶分子长轴能够对基片表面作液晶分子长轴能够对基片表面作 垂直(垂直()取向取向那样的基片表面处理。那样的基片表面处理。平行取向处理:平行取向处理:是指使是指使液晶分子长轴能够对基片表面作液晶分子长轴能够对基片表面作 平行(平行(|)取向取向那样的基片表面处理。那样的基片表面处理。倾斜取向处理:倾斜取向处理:是指使是指使液晶分子长轴能够对基片表面构液晶分子长轴能够对基片表面构 成一定角度的
2、倾斜取向(成一定角度的倾斜取向()取向取向那样那样 的基片表面处理。的基片表面处理。基片面直接取向处理法:物理吸附,化学吸附,基片面直接取向处理法:物理吸附,化学吸附,等离子体聚合,喷涂。等离子体聚合,喷涂。基片面间接取向处理法。基片面间接取向处理法。磨擦法。磨擦法。蒸涂法。蒸涂法。浸涂法浸涂法5.2 5.2 透明电极透明电极ITO膜膜氧化铟膜氧化铟膜制备方法:制备方法:蒸涂法,蒸涂法,溅射法,溅射法,热分解喷涂法。热分解喷涂法。在仅含少量氧气的负压气氛中,于玻璃板上在仅含少量氧气的负压气氛中,于玻璃板上蒸涂金属铟,然后在无氧的气氛中于蒸涂金属铟,然后在无氧的气氛中于200 200 0 0C
3、C以上烧结形成氧化铟(以上烧结形成氧化铟(InIn2 2O O3 3)膜)膜加入加入5%(重量)氧化锡,可提高透明度和导电率。(重量)氧化锡,可提高透明度和导电率。蒸涂法蒸涂法特点:酸蚀速度快,易加工微细图形。特点:酸蚀速度快,易加工微细图形。但大面积基板上不容易获得均匀的薄膜。但大面积基板上不容易获得均匀的薄膜。溅射法溅射法In-Sn合金,在氩气和氧气下反应溅射到合金,在氩气和氧气下反应溅射到位加热的玻璃基板上制成半透明的氧化物。位加热的玻璃基板上制成半透明的氧化物。然后在惰性气体中进行热处理得透明膜然后在惰性气体中进行热处理得透明膜特点:不能太厚。刻蚀时间长。特点:不能太厚。刻蚀时间长。热
4、稳定性好,透射率高热稳定性好,透射率高氧化物在氩气和少量氧气下,氧化物在氩气和少量氧气下,直接溅射到加热直接溅射到加热的基板上的基板上。特点:酸蚀速度快,易加工微细图形。特点:酸蚀速度快,易加工微细图形。大面积基板获得均匀的薄膜。大面积基板获得均匀的薄膜。热稳定性好,透射率高热稳定性好,透射率高热分解喷涂法热分解喷涂法将铟和锡有机金属化合物的喷雾粒子将铟和锡有机金属化合物的喷雾粒子喷到喷到500 0C的玻璃板上,经热分解制成。的玻璃板上,经热分解制成。特点:蚀刻性好,热稳定性稍差。特点:蚀刻性好,热稳定性稍差。5.3 5.3 液晶盒液晶盒基板基板灌注口灌注口基板粘贴 液晶灌注 封口5.4 5.
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