光刻胶讲义.pptx
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1、简介简介+光刻胶又称光致抗蚀剂(photoresist),是利用光化学反应进行图形转移的媒体,它是一类品种繁多、性能各异,应用极为广泛的精细化学品。电子工业的发展与光刻胶的发展是密切相关的。光刻胶的发展为电子工业提供了产业化的基础,而电子工业的发展又不断对光刻胶提出新的要求,推动光刻胶的发展。由于电子工业的飞速发展,目前光刻胶已经成为一个热点研究领域,每年均有大量相关论文发表和新产品推出。应用应用+主要应用于电子工业中集成电路和半导体分立器件的细微加工过程中,它利用光化学反应,经曝光、显影将所需要的微细图形从掩膜版(mask)转移至待加工的基片上,然后进行刻蚀、扩散、离子注入、金属化等工艺。因
2、此,光刻胶是电子工业中关键性基础化工材料。历史历史+光刻胶的历史可追溯至照相的起源,1826年人类第一张照片诞生就是采用了光刻胶材料-感光沥青。在19世纪中期,又发现将重铭酸盐与明胶混合,经曝光、显影后能得到非常好的图形,并使当时的印刷业得到飞速的发展。1954年Eastman-Kodak公司合成出人类第一种感光聚合物-聚乙烯醇肉桂酸酯,开创了聚乙烯醇肉桂酸酯及其衍生物类光刻胶体系,这是人类最先应用在电子工业上的光刻胶。1958年该公司又开发出环化橡胶-双叠氮系光刻胶,使集成电路制作的产业化成为现实。在此之前约1950年发明了重氮萘醌酚醛树脂系光刻胶,它最早应用于印刷业,目前是电子工业用用最多
3、的光刻胶,近年随着电子工业的飞速发展,光刻胶的发展更是日新月异,新型光刻胶产品不断涌现。+光刻胶按其所用曝光光源或辐射源的不同,又可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电子束胶、离子束胶、X射线胶等。光刻技术及工艺光刻技术及工艺+电子工业的发展离不开光刻胶的发展,这是由电子工业微细加工的线宽所决定的。众所周知,在光刻工艺中离不开曝光。目前采用掩膜版的曝光方式主要有接触式曝光和投影式曝光两种。光刻工艺过程光刻胶的种类虽然很多,使用主艺条件依光刻胶的品种不同而有很大的不同,但大体可遵从如下步骤:+a.基片处理:该工序包括脱脂清洗、高温处理等部分,有时还需涂粘附增强剂进行表面改性处理。脱脂一般采用溶剂或碱
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